硅靶和镀膜材料主要用于平板显示器和光学镀膜。
目标的主要性能要求
纯度：纯度是靶材的主要性能指标之一，因为纯度目标对薄膜的性质有很大的影响。
密度： 为了降低靶固体的孔隙率并改善溅射膜的性能，通常期望靶具有高密度。
晶粒尺寸和晶粒尺寸分布：通常靶是多晶结构，晶粒尺寸可以从微米到毫米。
我们具有材料可靠、有竟争力的价格和快速的交期等优势，欢迎问询。
名称 | 镀膜材料 |
材料 | 多晶硅或单晶硅 |
纯度 | 5N-6N |
尺寸和公差 | 定制 |
关键字:
镀膜材料
硅靶和镀膜材料主要用于平板显示器和光学镀膜。
目标的主要性能要求
纯度：纯度是靶材的主要性能指标之一，因为纯度目标对薄膜的性质有很大的影响。
密度： 为了降低靶固体的孔隙率并改善溅射膜的性能，通常期望靶具有高密度。
晶粒尺寸和晶粒尺寸分布：通常靶是多晶结构，晶粒尺寸可以从微米到毫米。
我们具有材料可靠、有竟争力的价格和快速的交期等优势，欢迎问询。
名称 | 镀膜材料 |
材料 | 多晶硅或单晶硅 |
纯度 | 5N-6N |
尺寸和公差 | 定制 |
关键字:
镀膜材料
